Fraunhofer Institute for Silicon Technology

O Instituto Fraunhofer de Tecnologia do Silício é uma instalação de pesquisa em Itzehoe que se concentra no desenvolvimento de semicondutores e microsistemas. O prédio contém laboratórios modernos com condições especiais onde chips e componentes para várias indústrias são produzidos.

O instituto foi fundado em 1999 como parte da Sociedade Fraunhofer, que apoia pesquisa na Alemanha. Desde então, tornou-se um centro importante para o desenvolvimento de tecnologias de silício no norte da Alemanha.

O instituto colabora estreitamente com universidades e empresas para compartilhar conhecimentos sobre tecnologias modernas. Os visitantes podem ver como a pesquisa e a indústria estão conectadas aqui por meio de projetos conjuntos.

O instituto fica em Itzehoe e é acessível por transporte público, que oferece boas conexões para a cidade. Os visitantes devem fazer consultas prévias, pois nem todas as áreas são abertas ao público.

O instituto opera suas próprias instalações de produção, o que lhe permite fabricar microchips em escala industrial. Isso é incomum porque as instituições de pesquisa geralmente apenas desenvolvem produtos enquanto a fabricação acontece em fábricas separadas.

Localização: Itzehoe

Início: 1999

Parte de: Fraunhofer Society

Site: http://isit.fraunhofer.de

Coordenadas GPS: 53.95720,9.48278

Última atualização: 13 de dezembro de 2025 às 09:22