Fraunhofer Institute for Silicon Technology, Instituto de pesquisa em Itzehoe, Alemanha.
O Instituto Fraunhofer de Tecnologia do Silício é uma instalação de pesquisa em Itzehoe que se concentra no desenvolvimento de semicondutores e microsistemas. O prédio contém laboratórios modernos com condições especiais onde chips e componentes para várias indústrias são produzidos.
O instituto foi fundado em 1999 como parte da Sociedade Fraunhofer, que apoia pesquisa na Alemanha. Desde então, tornou-se um centro importante para o desenvolvimento de tecnologias de silício no norte da Alemanha.
O instituto colabora estreitamente com universidades e empresas para compartilhar conhecimentos sobre tecnologias modernas. Os visitantes podem ver como a pesquisa e a indústria estão conectadas aqui por meio de projetos conjuntos.
O instituto fica em Itzehoe e é acessível por transporte público, que oferece boas conexões para a cidade. Os visitantes devem fazer consultas prévias, pois nem todas as áreas são abertas ao público.
O instituto opera suas próprias instalações de produção, o que lhe permite fabricar microchips em escala industrial. Isso é incomum porque as instituições de pesquisa geralmente apenas desenvolvem produtos enquanto a fabricação acontece em fábricas separadas.
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