Fraunhofer Institute for Silicon Technology, Instituto de pesquisa em Itzehoe, Alemanha.
O Instituto Fraunhofer de Tecnologia do Silício opera instalações modernas de sala limpa dedicadas ao desenvolvimento e fabricação de microeletrônica e tecnologia de microssistemas.
Estabelecido em 1999, o instituto tornou-se parte integral da Sociedade Fraunhofer para avançar tecnologias baseadas em silício e aplicações industriais no norte da Alemanha.
O instituto mantém conexões fortes com instituições acadêmicas e parceiros industriais, facilitando a troca de conhecimento através de programas especializados e colaborações de pesquisa.
Os cientistas desenvolvem componentes de eletrônica de potência e microssistemas para aplicações em medicina, engenharia ambiental, tecnologia de comunicação e indústria automotiva.
O instituto possui capacidades de fabricação que permitem a produção direta de microchips em escala industrial, conectando a pesquisa à implementação comercial.
Localização: Itzehoe
Início: 1999
Parte de: Fraunhofer Society
Site: http://isit.fraunhofer.de
Coordenadas GPS: 53.95720,9.48278
Última atualização: 3 de março de 2025 às 12:22
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